[KIPES 2012 현장] 성도GL, 인쇄 및 디지털 인쇄 작업에 최적화된 'XMF Workflow' 선보여

송민경 2012-09-08   싸이월드 공감 메일보내기 인쇄하기

성도GL(www.sungdogl.co.kr)은 9월 5일부터 8일까지 일산 킨텍스에서 진행되는 '제19회 국제인쇄산업대전(19th Korea International Printing & Graphics Industry Show)'에 참가해 후지필름의 XMF Workflow를 소개했다.

후지필름의 XMF Workflow는 매엽 및 윤전의 옵셋 인쇄 및 디지털 인쇄 작업에 최적화된 크로스 미디어 워크플로우로, 다양한 인쇄 시스템에 디지털 공정을 지원하고, MIS 작업공정을 지원하는 오픈 인터페이스를 제공한다.

또한 다양한 출력장치와 최적화를 위해 Adobe in-Rip 트래핑을 채택했으며, XMF ColorPath Organizer 및 클라우드 기반의 컬러관리 시스템을 지원한다.

한편 KIPES 2012는 국내외에서 개발된 우수한 인쇄 관련 기자재를 한자리에 모아 전시하는 인쇄 종합 박람회다. 한국이앤엑스와 대한인쇄문화협회가 주최하는 이번 전시회는 인쇄 관련 하드웨어 및 각종 서비스는 물론 다양한 인쇄 관련 세미나와 컨퍼런스를 통해 인쇄문화의 향상에 이바지한다는 방침이다. KIPES는 올해 전시회를 통해 인쇄 산업의 발전과 육성을 돕는 것은 물론 기계류의 국산화를 추진하기 위해 노력하고 있다.

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