[EMK 2015] 다원시스, 대기압 플라즈마 직접방전 시스템 선보여

남정완 2015-04-02  
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다원시스(dawonsys.com)는 1일(수)부터 3일(금)까지 코엑스에서 열리는 '2015 한국전자제조산업전(Electronics Manufacturing Korea 2015, 이하 EMK 2015)'에 참가해 대기압 플라즈마 직접방전 시스템을 선보였다.

대기압 플라즈마 직접방전 시스템 Gun Type AP 플라즈마는 3D 형상을 플라즈마 처리할 수 있으며 각종 필름과 Substrate의 국부적 처리가 가능하다. 적은 초기 도입 및 유지 보수 비용이 장점이며 고효율, 고성능을 실현했다. 편리한 셋업과 유지보수, 전기적 무손상 시스템으로 모듈 공정 적용이 가능하다.

대기압 플라즈마의 장점으로는 진공 장비의 불 필요성, 저가의 장비, 빠른 처리 공정 및 높은 생산성, 다양한 응용 분야, 넓은 처리 표면적과 3차원 처리 공정 등을 들 수 있다.

플라즈마의 원리를 이용하여 대기압 플라즈마 및 진공 플라즈마를 여러 타입으로 개발하여 지금까지 FPD, 광학필름, 터치패널, 2차전지, PCB, 자동차, 반도체 분야에 세정/접착/코팅/도장/도금/증착의 성능 향상을 위해 적용하고 있다.

한편, K.Fairs와 Reed Exhibitions, 한국광학기기산업협회(KOPHIA)가 공동 주최하고 삼성테크윈이 협찬하는 'EMK 2015'는 'SMT/PCB & NEPCON KOREA'와 'LED장비재료사업전', '터치 & 플렉시블 전시회', '포토닉스 서울', '국제 인쇄전자 및 전자재료 산업전' 그리고 '국제 기능성 필름 산업전'까지 총 여섯 개의 전시회가 동시에 진행된다.

삼성, LG 등 국내 유수의 전자 제조기업들의 관심을 한몸에 받고 있는 이번 전시는 국내뿐 아니라 중국, 일본, 대만 등 아시아 각지에서 온 대기업 생산 기술팀 및 구매 사절단을 비롯해 국내외 관련업계 주요 인사를 다수 초청해 참가 업체에게 국내외 바이어들과 마주할 수 있는 활발한 비즈니스의 장이 될 것으로 기대되고 있다.

→ 'EMK 2015' 뉴스 바로가기

(영상설명: '2015 한국전자제조산업전' 현장 스케치)

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