인텔, 노어플래시 65나노 전환 생산 발표

심범석 2007-08-23  
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SEOUL, Korea (AVING) -- <Visual News> 인텔은 자사의 임베디드 기술을 사용하는 고객들을 위해 임베디드 노어 플래시 제품 생산을 65나노 공정 기반으로 전환한다는 계획을 미국 SANTA CLARA 에서 21일 발표했다.

(사진: 인텔코리아 이희성 지사장)

인텔은 65나노 공정 기술로의 전환을 통해 가격 대비 성능을 향상시키고 제품 수명 주기 연장에 도움이 될 것으로 내다봤다. 이 두 가지 요소는 OEM업체들이 임베디드 시장 관련 제품을 개발하는데 있어 중요한 사항들이다.

가전제품, 유선 통신 장비 및 산업용 애플리케이션에 사용되는 인텔의 65나노 제품들은 2008년 상반기 중으로 고객들에게 샘플이 제공될 것으로 예상된다.

Global News Network 'AVING'

 

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