[미리보는 SEMICON korea] 원익IPS, PECVD, ALD, Metal CVD, LED Etcher 등 선보인다

김태영 2012-02-07  
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원익 IPS(대표 이문용, www.ips.co.kr)는 오는 2월 7일(화)부터 9일(목)까지 서울 코엑스에서 열리는 국내 최대 규모의 반도체재료장비 전시회 'SEMICON Korea 2012'에 참가해 PECVD(MAHA MP), ALD(DB21), Metal CVD(AKRA), MOCVD(Epion), LED Etcher를 선보인다.

(사진설명 : PECVD 'MAHA')

PECVD 'MAHA'는 반도체 소자를 가공할 때 쓰이는 핵심 장비로 진공 상태에서 가스의 화학적 반응을 이용해 산화막이나 금속막 등을 증착시켜주며, 일반적인 열분해 방식 외 플라즈마를 적용하는 것이 특징이다. 반도체 필수공정인 PE-CVD분야에서 최초로 국산화에 성공한 후 수년간 핵심기술들을 축적해온 원익 IPS의 대표모델이다.

(사진설명 : Metal CVD/ALD 'AKRA')

AKRA는 신뢰성과 생산성을 증대시킨 Metal CVD 장비이다. 주로 금속 박막 증착에 사용되는 장비로, 한 Chamber에서 CVD, ALD, SLD 모든 공정이 가능하며 반도체 Capacitor용 전극 및 Barrier Metal용으로 사용된다. 세계 최대 반도체 제조업체의 Ti/TiN 공정의 주력 장비로 채택돼 양산 적용 중이며, 타 물질증착에서도 우수한 공정/ 생산성을 나타내고 있다.

(사진설명 : DB21)

DB21은 공간분할 방식을 활용한 세계 최초의 ALD process용 설비로, 원익IPS에서 개발 및 양산화에 성공한 모델이다. 반도체 제품이 고집적화 될수록  ALD process의 수요는 급격히 증가할 것으로 예상되며, High_K 외에 Dielectric과 Metal 등 고품질, High-throughput을 요구하는 공정에 필수적으로 적용될 전망이다.

(사진설명 : Nano Etcher 'LED Etcher')

LED Etcher는 고휘도 LED 제조에 필요한 사파이어 기판에 플라즈마를 사용해 PSS(Patterned Sapphire Substrate)를 생산하는 장비이다. 고유의 플라즈마 Source를 사용해 높은 식각율 특성을 보여 탁월한 생산성이 특징이다.

SEMICON Korea 2012는 국내 최대 규모의 반도체재료장비업계의 행사로, 구매결정권을 지닌 바이어가 참관객 중 96%를 차지하는 전문 비즈니스 전시회이다. 올해는 'LED KOREA'가 동시 개최돼 첨단산업의 기저인 반도체와 LED 기술을 한 자리에서 볼 수 있는 자리가 될 것이다.

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